Čisticí bahenní maska Rise (Detox Mud Mask) 100 ml
Produkt není k dispozici
Vyberte si prosím jiné produkty ze sekce Čištění, odličování obličeje
Děkujeme za pochopení
Popis & Parametry
Čisticí bahenní maska okamžitě pročišťuje pleť, zjemňuje póry a absorbuje přebytečný maz. Díky kombinaci účinných přírodních složek odstraňuje nečistoty, detoxikuje a revitalizuje pokožku. Neoglucosamin jemně exfoliuje a pomáhá minimalizovat póry, zatímco aktivní uhlí funguje jako magnet na toxiny a povrchové nečistoty. Francouzský jíl bohatý na minerály pohlcuje nadbytečnou mastnotu a zanechává pleť svěží a vyhlazenou. Speciální rostlinný komplex pomáhá regulovat produkci kožního mazu a zmatňuje pokožku.
Aktivní látky:
- 23% aktivní uhlí,
- jíl,
- směs neoglukosaminu.
Vlastnosti:
- pleťová maska,
- okamžitě čistí pleť a zjemňuje póry,
- absorbuje přebytečný maz,
- detoxikuje pokožku,
- odstraňuje nečistoty ucpávající póry,
- revitalizuje a zanechává pleť svěží,
- vhodná pro všechny typy pleti, zejména mastnou a problematickou.
Jak používat
Konečky prstů naneste rovnoměrnou tenkou vrstvu na vyčištěný obličej. Vyhněte se očím. Nechte působit cca 5-15 minut, dokud zcela nezaschne. Poté pomocí rukou opláchněte teplou vodou. Neodstraňujte žínkou. Používejte 2-3x týdně nebo podle potřeby.
Upozornění
Pouze pro zevní použití. Dbejte na to, aby přípravek nevnikl do očí. Pokud se objeví podráždění, přerušte používání. U citlivějších typů pleti se může objevit přechodné mírné pálení či štípání, které není důvodem k přerušení používání. Umístěte mimo dosah dětí.
Složení
Aqua/Water/Eau, Kaolin, Glycerin, Charcoal Powder, Acetyl Glucosamine, Illite, Decyl Glucoside, Bentonite, Butylene Glycol, Arginine, Dimethicone, Citric Acid, Arctium Lappa Root Extract, Melia Azadirachta Leaf Extract, Montmorillonite, Lecithin, Polyacrylate-13, Polyisobutene, Disodium EDTA, Polysorbate 20, Xanthan Gum, Phenoxyethanol, Chlorphenesin, Methylparaben, Parfum (Fragrance).
